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實驗室 小型真空等離子清洗機NE-HW10
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產(chǎn)品簡介

小型真空等離子清洗機是一種專用于表面清潔和改性的高精度設(shè)備,其核心原理是利用等離子體技術(shù)高效去除物體表面的有機或無機污染物,并實現(xiàn)對材料表面特性的優(yōu)化。該設(shè)備通過引入高能離子源(通常為氫氣、氧氣、氦氣等氣體),在加熱或電場作用下激發(fā)氣體分子,使其電離形成等離子體。這些等離子體由高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子組成,具有極高的化學活性。在電場的作用下,等離子體中的活性粒子以高速撞擊待清洗物體的表面,通過與污染物分子發(fā)生物理轟擊或化學反應(yīng),將其分解為揮發(fā)性小分子或直接剝離,從而實現(xiàn)表面的深度清潔。除了清潔功能,等離子清洗機還能在一定程度上改變材料表面的物理化學特性。例如,通過選擇不同的工作氣體和處理參數(shù),可以在材料表面引入特定的官能團,從而增強其潤濕性、附著力或生物相容性。這種表面改性功能在微電子制造、光學器件、生物醫(yī)學材料等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用價值。

產(chǎn)品參數(shù)

等離子體發(fā)生器采用NAENTECH新一代放電專利射頻離子源,頻率偏移量<0.2KHz,功率0-300W連續(xù)可調(diào),自動阻抗匹配;
真空反應(yīng)腔室材質(zhì)316不銹鋼,軍工級密封;腔體容積10.8L;腔體尺寸200(W)*270(D)*200(H)mm;單層有效處理面積176(W)x210(D)mm;電極數(shù)量2個鍍金鋁合金專用電極+2個鋁合金托盤;處理層數(shù)3層;單層間距,H:40mm;
氣路控制配置MFC質(zhì)量流量控制器,量程0-500 SCCM;氣路數(shù)量,2路氣體,支持氧氣,氬氣,氮氣,氫氣等;
真空計皮拉尼真空計,測量范圍:5×10-2 ~1.0×105 Pa;測量精度:0.1Pa;
抽氣系統(tǒng)真空泵抽速:8m'/H,配油霧過濾器,極限真空度1PA,降噪減震設(shè)計,全金屬連接耦合系統(tǒng);真空管路配置不銹鋼管路+氣動閥門;
控制系統(tǒng)全觸摸屏7寸,氣體流量和真空度可實時精準顯示與控制,控制方式PLC;實時監(jiān)控功率、工作時間;自主專利設(shè)計等離子控制系統(tǒng),自動、手動模式,IO監(jiān)控;真空防呆、功率防呆、電機過熱報警;支持通入工藝氣體,先進行壓強平衡,可設(shè)置平衡時間。
場務(wù)條件電源供應(yīng)220V 5A;氣管接口直徑6mm;氣體純度99.99%;氣體壓力0.4-0.6Mpa;排氣口KF25。
整機參數(shù)整機功率1300W;外形尺寸,528mm(L)×510.5mm(W)×513 mm(H)。


產(chǎn)品推薦

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